REKLAMA

Dziennik Ustaw - rok 2016 poz. 926

Tekst pierwotny

Na podstawie art. 40 ustawy z dnia 9 listopada 2012 r. o nasiennictwie (Dz. U. poz. 1512, z 2013 r. poz. 865 oraz z 2015 r. poz. 1893) zarządza się, co następuje:

§ 1. [Rozporządzenie w sprawie terminów składania wniosków o dokonanie oceny polowej materiału siewnego poszczególnych grup roślin lub gatunków roślin rolniczych i warzywnych oraz szczegółowych wymagań w zakresie wytwarzania i jakości materiału siewnego tych roślin]

W rozporządzeniu Ministra Rolnictwa i Rozwoju Wsi z dnia 18 kwietnia 2013 r. w sprawie terminów składania wniosków o dokonanie oceny polowej materiału siewnego poszczególnych grup roślin lub gatunków roślin rolniczych i warzywnych oraz szczegółowych wymagań w zakresie wytwarzania i jakości materiału siewnego tych roślin (Dz. U. poz. 517 oraz z 2014 r. poz. 441 i 1651) w załączniku nr 2 do rozporządzenia wprowadza się następujące zmiany:

1) w części I „Wymagania dotyczące wytwarzania materiału siewnego roślin zbożowych”:

a) w ust. 5 „Izolacja przestrzenna” tabela otrzymuje brzmienie określone w załączniku nr 1 do niniejszego rozporządzenia,

b) w ust. 6 „Czystość odmianowa” tabela otrzymuje brzmienie określone w załączniku nr 2 do niniejszego rozporządzenia,

c) po ust. 8 dodaje się ust. 8a w brzmieniu:

„8a. Wymagania dodatkowe dla odmian mieszańcowych jęczmienia produkowanego przy użyciu techniki cytoplazmatycznej męskiej sterylności (CMS):

1) materiał siewny powinien posiadać wystarczającą czystość i tożsamość odmianową w zakresie cech składników mieszańca, która jest sprawdzana w następczej ocenie tożsamości;

2) w produkcji materiału siewnego męska sterylność składnika żeńskiego nie może być niższa niż:

a) 99,7% – dla materiału siewnego kategorii elitarny,

b) 99,5% – dla materiału siewnego kategorii kwalifikowany;

3) w produkcji materiału siewnego kategorii:

a) elitarny – wyrażona procentowo liczba roślin niebędących danym typem nie powinna przekraczać:

– 0,1% – dla linii podtrzymującej i przywracającej płodność,

– 0,2% – dla składnika żeńskiego CMS,

b) kwalifikowany – liczba roślin niebędących danym typem powinna stanowić nie więcej niż:

– 0,3% – dla linii przywracającej płodność i dla składnika żeńskiego CMS,

– 0,5% – jeżeli składnik żeński CMS jest mieszańcem pojedynczym;

4) materiał siewny kategorii kwalifikowany może być produkowany w uprawie mieszanej żeńskiego składnika męskosterylnego ze składnikiem męskim przywracającym płodność.”;

2) w części III „Wymagania dotyczące wytwarzania materiału siewnego roślin oleistych i włóknistych” w ust. 6 „Czystość odmianowa” pkt 1 otrzymuje brzmienie:

„1) odmian mieszańcowych rzepaku produkowanych przy zastosowaniu męskiej sterylności minimalna czystość odmianowa wynosi:

a) dla materiału siewnego kategorii elitarny:

– komponent mateczny – 99,0%,

– komponent ojcowski – 99,9%,

b) dla materiału siewnego kategorii kwalifikowany:

– odmian ozimych – 90,0%,

– odmian jarych – 85,0%;”.

§ 2. [Wejście w życie]

Rozporządzenie wchodzi w życie z dniem 1 lipca 2016 r.

Minister Rolnictwa i Rozwoju Wsi: K. Jurgiel

1) Minister Rolnictwa i Rozwoju Wsi kieruje działem administracji rządowej - rolnictwo, na podstawie § 1 ust. 2 pkt 1 rozporządzenia Prezesa Rady Ministrów z dnia 17 listopada 2015 r. w sprawie szczegółowego zakresu działania Ministra Rolnictwa i Rozwoju Wsi (Dz. U. poz. 1906).

²⁾ Przepisy niniejszego rozporządzenia w zakresie swojej regulacji wdrażają postanowienia:

1) dyrektywy wykonawczej Komisji (UE) 2015/1955 z dnia 29 października 2015 r. zmieniającej załączniki I i II do dyrektywy Rady 66/402/EWG w sprawie obrotu materiałem siewnym roślin zbożowych (Dz. Urz. UE L 284 z 30.10.2015, str. 142);

2) dyrektywy wykonawczej Komisji (UE) 2016/11 z dnia 5 stycznia 2016 r. zmieniającej załącznik II do dyrektywy Rady 2002/57/WE w sprawie obrotu materiałem siewnym roślin oleistych i włóknistych (Dz. Urz. UE L 3 z 06.01.2016, str. 48).

Załącznik 1.

Załączniki do rozporządzenia Ministra Rolnictwa i Rozwoju Wsi
z dnia 13 czerwca 2016 r. (poz. 926)

Załącznik nr 1

Lp.	Wyszczególnienie	Odległość w metrach nie mniejsza niż dla plantacji¹⁾ materiału siewnego kategorii:
		elitarny	kwalifikowany
1	2	3	4
1	– dla odmian ustalonych żyta, obcopylnych odmian pszenżyta oraz mozgi kanaryjskiej odległość od zasiewów innych odmian lub roślin nietypowych dla odmiany tego samego gatunku, a w przypadku pszenżyta od źródeł pyłku Triticum spp. i żyta	300	250
2	– dla odmian samopylnych pszenżyta odległość od innych zasiewów pszenżyta oraz żyta	50	20
3	– dla pszenic odległość od zasiewów pszenicy porażonej w silnym stopniu głownią pyłkową lub śniecią cuchnącą; – dla owsów odległość od zasiewów owsów porażonych w silnym stopniu głownią pyłkową owsa; – dla jęczmienia odległość od zasiewów jęczmienia porażonych w silnym stopniu głownią pyłkową lub głownią zwartą jęczmienia	50	20
4	dla jęczmienia:
	– ozimego odległość od plantacji jęczmienia ozimego o innej rzędowości	100	50
	– mieszańcowego produkowanego z zastosowaniem cytoplazmatycznej męskiej sterylności (CMS) odległość od innych źródeł pyłku, które mogą spowodować niepożądane zapylenie
5	– dla składników żeńskich odmian mieszańcowych pszenic, samopylnego pszenżyta, owsów, jęczmienia wyprodukowanego z zastosowaniem techniki innej niż cytoplazmatyczna męska sterylność (CMS) odległość od zasiewów od wszystkich innych odmian z wyjątkiem uprawy składnika męskiego lub roślin nietypowych dla odmiany tego samego gatunku, które nie są zapylaczem w wytwarzaniu odmiany mieszańcowej	25²⁾
6	dla kukurydzy odległość plantacji, na której produkuje się nasiona:
	– składnika rodzicielskiego, od zasiewów innej odmiany lub formy kukurydzy niż ta, której pyłkiem mają być zapylone rośliny	300
	– odmian mieszańcowych, od zasiewów innej odmiany lub formy kukurydzy innej niż zapylacz danego mieszańca oraz odmian ustalonych	200
7	odległość od innych sąsiadujących źródeł pyłku, które mogą spowodować niepożądane zapylenie dla żyta mieszańcowego:
	– z zastosowaniem męskiej sterylności	1000	500
	– bez zastosowania męskiej sterylności	600	500

Objaśnienia:

¹⁾ W przypadku pszenic, owsów i jęczmienia izolację przestrzenną może stanowić pas technologiczny o szerokości nie mniejszej niż 2 m, pod warunkiem że sąsiadująca plantacja tego samego gatunku nie jest porażona organizmami, o których mowa w lp. 3 tabeli.

²⁾ Odległość ta może być nieuwzględniona, jeżeli istnieje wystarczające zabezpieczenie przed niepożądanym obcym zapyleniem.

Załącznik 2.

Załącznik nr 2

Lp.	Gatunki	Minimalna czystość odmianowa w ocenie polowej dla materiału siewnego kategorii:
		elitarny	kwalifikowany
			I rozmnożenia	II rozmnożenia
gatunki podlegające ocenie według norm procentowych (czystość określona w procentach)
1	pszenice, jęczmień i owsy	99,9	99,7	99,0
2	samopylne odmiany pszenżyta	99,7	99,0	98,0
3	każdy składnik rodzicielski odmian mieszańcowych, owsów oraz pszenic	99,7	90,0¹⁾
4	każdy składnik rodzicielski mieszańcowych odmian samopylnych pszenżyta	99,0
5	odmiany mieszańcowe jęczmienia produkowanego z zastosowaniem CMS	99,7	85^1),2)
gatunki podlegające ocenie według norm powierzchni (czystość określona w sztukach na jednostce kwalifikacyjnej)
1	1) odmiany ustalone i mieszańcowe żyta, 2) ustalone odmiany obcopylne pszenżyta, 3) odmiany ustalone mozgi kanaryjskiej oraz kukurydzy	1,0	1,0
2	1) dla odmian mieszańcowych kukurydzy – liczba roślin, które są rozpoznawalne jako niebędące składnikiem rodzicielskim:
	a) w produkcji każdego ze składników rodzicielskich (Ro, Rm)	0,1
	b) w produkcji materiału siewnego odmian mieszańcowych – każdy składnik rodzicielski	0,2
	2) gdy 5% lub więcej roślin składnika matecznego ma znamiona zdolne do zapylenia, to procent roślin w obrębie tego składnika, który pylił lub pyli:
	a) w każdej ocenie stanu plantacji	1,0
	b) we wszystkich ocenach stanu plantacji łącznie	2,0
Wymagana minimalna skuteczność krzyżowania odmian mieszańcowych pszenic, jęczmienia, owsów oraz pszenżyta nie może być niższa niż 95,0%

Objaśnienia:

¹⁾ Jest to czystość odmianowa odmian mieszańcowych pszenic, jęczmienia, owsów i samopylnych odmian pszenżyta stwierdzona w następczej ocenie tożsamości przy użyciu właściwej wielkości próbek.

²⁾ Zanieczyszczenia inne niż restorer nie mogą przekraczać 2%.

Metryka